岗位描述
岗位职责
1. 负责CMP工艺的开发与标准化,包括抛光液、研磨垫等关键耗材的选型与配方优化,确保工艺在不同材料层(如氧化物、金属铜、低K介质)上的选择性、去除速率和表面质量达到设计要求。
2. 运用PDCA循环和SPC统计过程控制方法,分析inline量测数据与缺陷分布,持续优化工艺参数,扩大工艺窗口,提升制程稳健性。
3. 配合需求,开展新型材料(如钴、钌)的CMP工艺研发,推动从实验室验证到量产导入的全流程落地。
4. 写工艺规范、作业指导书及培训材料,组织内部技术交流与新人带教,促进知识沉淀与团队能力提升。
岗位要求
1. 化学、机械或材料相关专业本科以上学历;
2. 5年以上半导体化学研磨抛光工艺经验;
3. 较强的沟通能力,良好的团队精神,有活力、勤奋并有韧性;
4. 有同时处理多项复杂工作任务的能力。