岗位描述
岗位职责
1.负责WET 干湿法清洗制程工艺相关问题的分析和处理
优化chemical,气体清洗方法工艺参数,提升器件性能及良率;
2.设计并执行DOE实验,分析工艺窗口,推动WET工艺的持续改进;
3.对化学品,气体特性(如反应机理,速率,等)进行深度分析,识别关键影响因素;
4.与器件设计、整合、制造等部门紧密合作,确保WET工艺满足产品性能需求;
5.支持新工艺从研发到量产的转移,协助解决量产过程中的工艺问题。
岗位要求
1.硕士及以上学历;
2.化学工程、电子工程、材料科学、等相关专业;
3.2年以上工作经验;
4.熟悉DRAM/CMOS相关的电性及可靠性特性;
5.具备先进CMOS工艺开发经验(如HKMG高介电金属栅极技术)者优先;
6.良好的沟通与团队协作能力;擅长解决复杂问题,有领导跨职能专项任务组的经验。