岗位描述
岗位职责
1. 负责光刻工艺任务,保障生产线的稳定运行,持续改进统计过程控制(SPC)指标,并维护相关工艺配方(Recipe)。
2. 主导新光刻工艺的开发与导入,提升工艺稳定性,深入分析并解决在线缺陷(Inline Defect)问题,确保产品质量达标。
3. 推动光刻产能扩充项目,通过优化参数提升单位时间晶圆产量(WPH),提高设备综合效率(OEE)。
4. 根据文件控制要求(DCC)撰写、审核并优化工艺文件,制定和更新过程失效模式分析(PFMEA)及工艺变更管理(PCCB)流程,确保文档合规性。
5. 优化生产支持系统,包括改进SPC系统、维护远程测量系统(RMS)、管理掩模版跟踪系统(RTMS)及光刻胶管理系统(PRMS),提升系统运行效率。
6. 完成上级安排的其他工作任务,协同跨部门团队解决生产中的突发问题,支持整体目标达成。
任职要求
1. 本科学历及以上。
2. 熟悉半导体行业光刻工艺环境,能适应夜班工作安排。
3. 掌握光刻工艺相关技能,包括配方维护、缺陷分析及系统操作,如MES、RMS、SPC等。
4. 具备较强的学习能力和技术研究能力,能快速吸收新知识,推动工艺优化。
5. 品德优良,吃苦耐劳,具备良好的团队协作精神。
工作地点
中国,广东,深圳市